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2020-03-07小劉科研筆記之刻蝕的基本要求和基本過程
隨著半導體技術的發展，干法刻蝕已經成為工藝步驟中不可或缺的重要步驟，由于干法刻蝕對于薄膜材料具有良好的各項異性和選擇比，使得干法刻蝕在納米級和微...
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2020-03-05小劉科研筆記之電子束光刻中的臨近效應以及其修正的方法
?近年來，電子束光刻的眾多優勢凸顯出來，通過電子束直寫的形式將圖形直接轉移到晶圓上，不需掩膜版，直寫線寬最小可達10 nm，然而這種方法也存在一...
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2020-03-03小劉科研筆記之SEM-EDS聯用技術在表征科學中的應用
表面分析技術是一種統稱，指的是利用電子、光子、離子等與材料表面進行相互作用，分辨范圍從微米級到納米級，測量從表面散射或發射出來的各種離子、電子和...
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2020-02-29小劉科研筆記之簡析在實際應用中，影響ICP刻蝕效果的因素
?在感應耦合等離子體刻蝕的工藝中，影響刻蝕形貌的因素很多，如：工藝參數里有源功率、RF功率、流量比、工作壓力、He壓、內壁溫度。另外，chill...
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2020-02-28小劉科研筆記之以2 um線寬為例，淺析紫外光刻之多種曝光模式
本篇筆記來源于日常實驗工作中的某一個案例。 一、實驗設備介紹 SUSS紫外光刻機是設計用于實驗室研發，小批量生產的高分辨率光刻系統。SUSS紫外...
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2020-02-27小劉科研筆記之影響超聲清洗效果因素
超聲清洗是大功率超聲領域中最為普遍，應用最為廣泛的清洗方法和應用技術。超聲清洗不僅清洗效率高、效果好，而且可以對復雜零件、半導體、電子器件進行清...
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2020-02-26小劉科研筆記之掃描電子顯微鏡的結構組成、工作原理及其應用
掃描電子顯微鏡（Scanning Electron Microscope，簡稱SEM），中文簡稱掃描電鏡，是介于透射電鏡和光學顯微鏡之間的一種微...
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2020-02-25小劉科研筆記之電子束光刻的影響因素——前散射
?電子束光刻有著較高的靈活性和分辨率，但在實際應用中，設計的圖形與最終曝光得到的圖形都會存在一定的偏差。造成這一現象的原因有很多，除了工藝上的影...
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2020-02-24小劉科研筆記之幾種常見的研磨拋光液的優劣勢分析
研磨拋光是半導體加工過程中的一項重要工藝，主要應用于半導體表面進行加工， 研磨液、拋光液是影響半導體表面質量的重要因素。 一、簡析幾種常見的研磨...