PH metrology

量測(cè) metrology

常見(jiàn)的光刻量測(cè)有以下幾種

Thickness (厚度)

REG=registration=overlay=套刻

CD critical dimension 關(guān)鍵尺寸

Particle monitor


Thickness (厚度)

合適并且標(biāo)準(zhǔn)的膜厚為了標(biāo)準(zhǔn)尺寸服務(wù),經(jīng)常見(jiàn)到的CD drift 好多是因?yàn)閠hickness變化.

REG=registration=overlay=套刻

不同半導(dǎo)體層次的對(duì)準(zhǔn),

CD critical dimension 關(guān)鍵尺寸


常見(jiàn)的CD 結(jié)構(gòu)(feature)

line

space

contact hole


Particle monitor
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